현상 (Development): 노광 단계 이후 빛을 받은 포토레지스트를 현상액을 통해 제거하여 TFT에 원하는 모양을 구현하는 과정
지난 디스플레이 상식사전 #20 노광에 이어서 포토리소그래피 과정 중 다음 공정인 현상 (Development)에 대해 알아보겠습니다. 디스플레이 TFT를 만드는 핵심 공정인 포토리소그래피는 사진을 현상하는 방식과 매우 유사한데요. 현상은 노광 이후 TFT에 현상액을 도포하여 빛이 조사된 부분과 아닌 부분을 선택적으로 제거하는 과정입니다. 결과적으로 현상은 다음 공정인 식각(Etching)에서 회로 패턴이 생성될 수 있도록 TFT 기판 위에 원하는 모양만 남기는 과정이죠.
다양한 방식으로 도포하는 현상액
현상액 도포 방식
개념
Dip
기판을 Bath에 담가 현상
Spray
현상액을 노즐로 분사
Puddle
현상액을 기판 위에 공급, 표면 장력 이용
앞서 디스플레이 상식사전 #19 포토레지스트 편에서 알아본 것처럼, 포토레지스트 (PR) 공정은 Positive PR과 Negative PR, 두 종류가 있습니다. Positive PR은 빛에 노출된 부분이 현상액에 녹고, Negative PR은 반대로 빛에 노출되지 않은 부분을 현상액으로 제거하게 됩니다.
현상 공정의 핵심인 현상액은 여러 형태로 도포할 수 있는데요. 첫 번째, Dip 방식은 현상액이 담긴 통에 기판을 넣어서 현상하는 방식입니다. 두 번째, Spray 방식은 노즐을 이용하여 현상액을 기판에 분사합니다. 마지막으로 Puddle 방식은 표면 장력을 이용하기 위해 기판을 눕혀 그 위에 현상액을 올립니다. 이렇게 다양한 방법을 활용하여 경우에 맞추어 효율적으로 TFT 기판을 현상할 수 있습니다. 현상의 결과는 이전 공정 단계인 노광 시간, 현상액 온도, 현상 시간 등 복합적인 원인들에 의해 결정됩니다.
