[小讲座 #21] 显影(Development)

显影(Development): 曝光阶段之后接受光照的光刻胶通过显影液去除，从而在TFT上实现所需图案的过程。

显影(Development)作为制作显示屏TFT的核心光刻工艺，光刻工艺与照相机照相的方式非常相似。显影是在曝光阶段之后在TFT上喷涂显影液，选择性地去除光线照射的部分以及其他部分的过程。最终，显影是为了在下一道工艺刻蚀(Etching)中形成电路图案，而只在TFT基板上留下所需形状的过程。

多种方式喷涂显影液

光刻胶工艺分为Positive PR和Negative PR共计两种。其中Positive PR将暴露在光照下的部分溶解在显影液中，而Negative PR则是将未暴露在光照的部分用显影液去除。

显影工艺的核心——显影液可通过多种方式喷涂。第一种，Dip方式是在装有显影液的桶中放入基板进行显影的方式。第二，Spray方式使用喷嘴将显影液喷射到基板。最后一种Puddle方式是为了使用表面张力，将基板放倒后放入显影液的方式。通过以上三种方法，根据所需从而形成更加有效的TFT基板。显影的结果则是由前一工艺阶段的曝光时间、显影液温度、显影时间等综合原因决定而成。