Theme 1. 显示屏的基本要素
第十七个概念: 氧化物薄膜晶体管(Oxide TFT)
非晶硅(a-Si)是一种构成TFT的材料，因其具有制备工艺简单、电子移动速度快、生产良率高等优点，在LCD技术应用早期被广泛使用。但由于非晶硅的物理特性导致搭载该技术的产品较难呈现清晰的画质，因此业内提出了取代a-Si物质的必要性。而氧化物(Oxide)TFT技术弥补了a-Si的缺点。氧化物TFT技术之所以被如此命名，是因为在其生产工艺中原材以铟-镓-锌(In–Ga–Zn)为基础，制备出具有半导体特性的氧化物(In–Ga–Zn–O)。
氧化物TFT的优势
氧化物TFT的最大优势就是电子移动速度，其与原子排列不规则而电子移动速度慢的a-Si不同，氧化物TFT使用的关键材料是具有半导体特性的氧化物，因此其电子移动速度约快10倍左右。随着电子移动速度变快，信号传送速度也随之加快，从而搭载该技术的产品能实现更加清晰的优秀画质。此外，氧化物TFT还能直接复用a-Si的工艺设备，因此可降低生产成本。并且氧化物TFT因其具有非晶质形态，原子排列规则，可用于生产超大尺寸产品。另外，由于氧化物TFT在人眼可视的电磁波领域可呈现透明状态，因此也被应用于透明OLED产品。
Recap Quiz
Q. 氧化物TFT的电子移动速度较快，因此有利于呈现（）。下面正确的是哪一项？
① 高画质 ② 透明
答案: ①
