[디스플레이 상식사전 #19] 포토레지스트 (Photoresist)

Theme 2. 디스플레이 공정

열 아홉 번째 개념: 포토레지스트 (Photoresist)

앞서 디스플레이 상식사전 #18 포토리소그래피에서 언급한 포토레지스트에 대해 기억하시나요? 포토레지스트는 빛에 의해 화학적 변화를 일으키면서 굳거나 또는 녹기 쉽게 변하는 감광액의 일종입니다. 감광이란, 빛을 받았을 때 물리적, 화학적 변화를 일으키는 현상인데요. 포토레지스트는 디스플레이의 픽셀 밝기를 조절하는 핵심 반도체 소자인 TFT(박막 트렌지스터) 제조에 필수적인 소재로, TFT 기판에 판화와 같은 입체적인 미세한 회로 패턴을 만드는데 필요한 포토리소그래피 공정에서 사용됩니다.

포토리소그래피 공정의 핵심 소재, 포토레지스트

포토레지스트는 필요에 따라 빛을 받은 부분이 용해되어 사라지는 양성(Positive)형과, 반대로 빛을 받지 않은 부분이 용해되어 사라지는 음성(Negative)형이 사용되는데요. 이는 포토리소그래피 공정에서 빛에 노출된 부분과 노출되지 않은 부분을 선택적으로 녹여내는 현상(Develop) 과정에 있어 중요합니다. 양성형 포토레지스트가 도포된 기판은 현상 과정에 사용되는 현상액을 통해 빛을 받은 부위가 사라지고, 포토마스크에 씌워져 빛이 닿지 않은 부위가 남게 돼 결국 포토마스크 모양의 패턴이 완성되는 반면, 음성형 포토레지스트가 도포된 기판은 빛에 노출된 부분이 패턴 모양을 결정하게 되는 거죠. 이후 식각(Etch), 박리(Strip) 단계를 거쳐 포토레지스트를 제거하게 되면 TFT를 구성하는 적층 구조가 완료됩니다!